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臺式真空等離子清洗機是一款小型化、高集成度的等離子體表面處理設備，主要應用于實驗室研發(fā)、小批量生產(chǎn)場景，核心用于對精密零部件、電子元件、光學器件等小型工件進行表...
[查看詳情]技術(shù)文章| Technical articles
實驗室等離子清洗機的核心功能，是利用等離子體的高能活性粒子，對材料表面進行物理轟擊和化學反應，實現(xiàn)表面污染物去除、表面活化、表面刻蝕等處理效果。其核心作用圍繞“微觀潔凈、表面改性、科研適配”展開，具體可分為三類：微觀污染物精準去除。這是最基礎的核心功能。它能去除材料表面的有機油污、殘留雜質(zhì)、弱吸附塵埃等微觀污染物——這些污染物往往難以通過傳統(tǒng)清洗方式清除，卻會嚴重影響實驗精度。比如半導體晶片表面的有機殘留、生物載玻片的油污、高分子材料的表面雜質(zhì)等，都能通過等離子體的氧化分解和...
[查看詳情]應用案例
等離子清洗特點是不分處理對象的基材類型，均可進行處理，對金屬、半導體、氧化物和大多數(shù)高分子材料等都能很好地進行超清洗。
圖為PLUTO-T等離子清洗機對陶瓷基板上銀氧化層的清洗實例。
等離子清洗機可用于晶圓或者電路板表面的光刻膠去除，以及去除光學元件、半導體元件表面的光阻材料等。
圖為PLUTO-MD等離子去膠機對PCB板和硅片的去膠實例。
改善粘合力-用于光學元件、生物醫(yī)學、封裝領域等；
表面改性-用于高分子材料表面修飾、PDMS微流控芯片鍵合、玻璃等，增強表面粘附性、浸潤性、相容性；
圖為PLUTO-M對線路板、橡膠管和手機膜的表面改性實例。
等離子刻蝕是干法刻蝕中常見的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，電離氣體原子通過電場加速時，會釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。
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